plasma等离子清洗机 NPC-3500A全自动等离子去胶机 那诺-马斯特

NPC-3500(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。

NPC-3500(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)产品特点：

紧凑型立式系统

自动上下载片

带Load Lock

不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔

兼容100级**净间使用

淋浴头、ICP或微波等离子源

旋转样品台

RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台

全自动或手动RF调谐

z多可支持5个MFC带电抛光的气体管路

PC计算机控制的气动阀

带密码保护的多级访问控制

基于LabView软件的PC计算机全自动控制

机械泵的压力可达到10mTorr

250 l/s的涡轮分子泵

极限真空为5x10-7Torr

完整的安全联锁

应用：

**物以及无机物的残留物去除

光刻胶剥离或灰化

去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用

清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架

提高黏附性，消除键合问题

塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能

产生亲水或疏水表面